深圳国微福芯请求可下降对光刻机功能要求地图掩膜处理办法、光刻办法专利可下降对机功能要求

来源：华体会登入页面    发布时间：2025-02-05 10:42:53

  金融界2024年11月11日音讯，国家知识产权局信息数据显现，深圳国微福芯技能有限公司请求一项名为“可下降对光刻机功能要求的地图掩膜处理办法、光刻办法”的专利，公开号CN 118915379 A，请求日期为 2024 年 7 月。

  专利摘要显现，本发明公开了一种可下降对光刻机功能要求的地图掩膜处理办法、光刻办法。其间可下降对光刻机最小分辨率功能要求的地图掩膜处理办法，包含：过程 1，对规划地图中的几何图形的要害尺度以及散布特征做多元化的剖析，并从中提取出合适进行 DSA 工艺处理的部分地图作为 DSA 工艺地图；过程 2，对 DSA 工艺地图进行 DSA 工艺处理，依据 DSA 工艺对地图的效果特征，生成 DSA 工艺地图的先导地图；过程 3，将所述 DSA 工艺地图替换为对应的先导地图；过程 4，将先导地图独自或许与原规划地图中的剩下部分进行兼并，生成新的两个或一个掩膜，并对掩膜来优化。本发明可以打破现有的光刻机的极限，可以在在晶圆硅片上制造出契合工艺要求的该类几何图形。